| QPR ProcessuRide Xpress Découvrez, analyser, concevoir, communiquer et améliorer vos processus métier. |
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QPR ProcessuRide Xpress Classement & Résumé
- Nom de l'éditeur:
- QPR Software
- Site Internet de l'éditeur:
- http://www.qpr.com
- Systèmes d'exploitation:
- Windows Vista Windows XP
QPR ProcessuRide Xpress Mots clés
QPR ProcessuRide Xpress La description
PR ProcessuSuide XPress fournit aux utilisateurs d'entreprises un outil puissant d'exposition, d'analyse, de développement, de documentation, d'amélioration et de communication des informations sur les processus métier. Il se concentre sur l'utilisateur d'entreprise qui cherche à créer et à maintenir la fin des hiérarchies de modèle de processus final, plutôt que des présentations isolées des organigrammes. QPR ProcessuSuide XPress propose un environnement de modélisation professionnel aussi facile à utiliser que des outils de bureau courants et prend en charge les fonctionnalités de modélisation puissantes que vous ne trouvez normalement que dans les offres de la suite de Gestion des processus métiers de Teier, telles que: puissant organigramme (notation personnalisable ainsi que BPMN). , Analyse de modèle de processus, simulation de modèle de processus, édition de modèle de processus, modélisation de processus hiérarchique (processus de sous-lit et de sodiblon connectés), Perspecticitifs Modèles SMAIPLE (analyse), Vues de carte de processus personnalisables, personnalisation de la palette d'outils, réutilisation de l'élément de modèle, élément d'élément personnalisé, unité d'organisation Modélisation, support de voie de bain, orientation du modèle horizontal / vertical, BPMN à la transformation BPEL, modèles de modèle, annotations de modèle, liaison de documents, intégration de documents, liaison de modèle externe, Search.Vversion 8.0.1.110 Caractéristiques Interface utilisateur à base de ruban, intégré Intégration avec Microsoft SharePoint Server pour lier des informations externes avec les éléments de la carte de traitement, Pro Gestion des actifs de modèle CESS, prise en charge des gradients, de transparence, de textures et de styles de ligne, prise en charge de BPMN 1.1, de nouveaux types d'attributs personnalisés, une prise en charge améliorée pour la personnalisation de la notation et un contrôle amélioré sur le comportement des éléments de modélisation.
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