Nanomaker-Editor

Nanomaker est un système logiciel / matériel puissant pour la lithographie basée sur SEM / FIB destinée à la pointe de la technologie ...
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Nanomaker-Editor Classement & Résumé

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  • Prix:
  • $44.95
  • Nom de l'éditeur:
  • ST Services
  • Site Internet de l'éditeur:
  • Systèmes d'exploitation:
  • Windows
  • Taille du fichier:
  • 1000 KB

Nanomaker-Editor Mots clés


Nanomaker-Editor La description

Nanomaker est un système de logiciels / matériels puissant pour la lithographie basée sur SEM / FIB destinée à la technologie de pointe de la conception et de la fabrication d'appareils et d'objets de micro et de nano électroniques. La version d'évaluation de Nanomaker-Editor est limitée au nombre d'éléments de la structure à exporter. Pourquoi Nanomaker? Nanomaker fournit un ensemble unique de possibilités pour les nanotechnologies. Il est fourni avec un éditeur graphique amical pour concevoir des structures hiérarchiques de toutes tailles et de toutes les formes disposées à tout niveau de complexité. fait simuler le développement de la résistance. calcule les valeurs de dose d'exposition / fois compte tenu de la correction des effets de proximité des structures 2D / 3D. compense la distorsion statique du système de déviation de faisceau électronique. réduit considérablement le temps d'exposition total en supprimant activement les retards dynamiques de la déviation de faisceau électronique. peut être utilisé comme outil de diagnostic pour la création d'une vue panoramique haute résolution des micro-objets à grande échelle (centimètres). Objectifs: Pour convertir tout microscope électronique à balayage (SEM) en une lithographie à faisceau électronique. pour fournir une résolution ultime de la lithographie avec une certaine configuration (y compris des lithographies industrielles). Pour y parvenir: Faire une correction pour un effet de proximité lors de la préparation des données pour la lithographie compenser la distorsion et les retards du système de numérisation lors de l'exposition et de l'acquisition d'images compenser la dérive du système à une exposition prolongée pour prédire les résultats de la lithographie en simulant. Pour assurer le réglage de diverses configurations d'équipements lithographiques, pour la présence ou l'absence de systèmes d'obturation de faisceau, d'étapes, etc. pour créer des structures tridimensionnelles dans une résistance. Familiariser l'utilisateur avec les principes de base de la lithographie. Microscope électronique à balayage contrôlé par Nanomaker Applications: Microélectronique Nanotechnology 3D Nano-micro motif optique diffractive (hologrammes synthétiques) pour une plage de rayons X visible et des rayons X Microscopie numérique Facilement installé sur: SEM (Jeol, Leo, Zeiss, Hitachi, Philips, Fei, Tescan, ...) Machines à faisceau d'ions ciblées STM / AFM'S Configuration requise: Processeur de classe I486 ou Pentium Microsoft Windows 98 / Me / NT 4.0 / 2000 / XP 64 Mo de RAM 20 Mo d'espace disque disponible Pour plus d'informations, visitez notre page d'accueil: http://nmaker.ru ou http://nanomaker.ru.


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